照射的紫外線量波長一般為365nm和高壓汞燈、金屬鹵化物燈等紫外線燈、UV-LED、黑光燈（熒光燈）用作紫外線照射設備的光源。

照射方法有兩種：一種是照射部移動并掃描晶圓，另一種是一次性照射整個晶圓。

另外，部分設備還配備氮氣吹掃功能，防止氧氣造成的固化抑制，使紫外線均勻照射，使膠帶固化，防止后處理中晶圓缺陷和損壞。

最佳照射條件根據(jù)所使用的切割膠帶和光源的不同而不同，因此需要選擇與生產(chǎn)條件相匹配的紫外線照射裝置。

涂布機、步進機等曝光設備一般采用UV燈光源作為光源。 UV燈光源因其可以提供多種波長且易于獲得大量光而被越來越多地使用，但另一方面，它們往往壽命較短且運行成本較高，因為它們必須始終保持在有人擔心啟動時間較長，導致工作效率下降，并且含有汞，會造成環(huán)境風險。

我們的UV-LED光源裝置可以解決這個問題。我們開發(fā)的它具有與紫外燈光源在相應頻率（如 365nm 和 405nm）下獲得的相同的照射面積和均勻性。

在半導體制造工廠和FPD制造工廠使用的曝光設備中，我們在將UV燈光源替換為UV-LED光源方面取得了許多成果，并且由于更長的壽命而實現(xiàn)了運行成本的降低和早期啟動。